朱涛

简介:

男,1968年12月生,1997年浙江大学材料系工学博士,现为中科院物理研究所研究员。曾于2001年到2002年在美国Delaware大学做访问学者,2005年到2006年在德国Juelich研究中心做Humboldt学者。

主要研究方向:

主要从事自旋电子材料及器件的研究,着重于自旋轨道耦合导致的等多种量子序的调控、磁性金属/氧化物及其异质结中的磁输运特性以及高频特性,以及极化中子反射技术和应用的研究。

过去的主要工作及获得的成果:

从1997年起一直从事磁性薄膜及有关电磁特性的研究工作,先后研究了Fe-Al2O3颗粒膜的隧穿磁电阻效应(PRB 1999, 60, 11918);LSMO纳米颗粒体的晶界隧穿磁电阻效应(APL 2001, 78, 3863);Fe3O4t纳米颗粒的非常规交换偏置效应=(PRB 2004, 60, 11918);Co-ZnO稀磁半导体的磁性机理(APL 2006, 89, 022508);采用极化中子反射这一能同时研究界面结构及磁性的有力工具对CoFeB/MgO界面进行了研究(APL 2012, 100, 202406);进一步通过调控MgO/CoFeB/Ta薄膜的磁各向异性发现了迄今为止Hall灵敏度最高的材料(APL 2014, 104, 202404)。同时,从2004年起负责中国散裂中子源的多功能中子反射谱仪的研制,该谱仪已于2017年底建成。

代表性论文及专利:

已在Phys. Rev. B、Appl. Phys. Lett.、Adv. Mater.、Sci. rep.SCI收录期刊发表文章60多篇、授权国家发明专利6项。

目前的研究课题及展望:

目前承担基金委面上基金一项,以及中国散裂中子源反射谱仪研制项目

培养研究生情况:

欢迎具有物理和材料等专业背景、以及对科学仪器研制感兴趣的考生报考!

其他联系方式:

电话:010-82649034;Email: tzhu@iphy.ac.cn

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